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脉冲激光沉积系统(PLD)
品 牌 :SURFACE
型 号 :PLD-Workstation
产 地 :美国
关键词 :PLD、PZT、脉冲激光沉积

脉冲激光沉积(PLD)是用于薄膜沉积的通用工艺,其主要优点是将材料按化学计量从靶转移到基板。SURFACE PLD-Workstation是薄膜的优秀原型设计和研究系统,可轻松获取新材料,特别是复杂氧化层。

 

PLD-WorkstationPLD系统的所有组件(包括激光和激光气体供应)集成到一个框架中。紧凑的设计使系统的使用灵活,并避免了许多硬件安装工作,即使对于没有PLD技术经验的用户,也可以使用PLD设备!

Ÿ 全封闭激光束线,外部驱动镜调节,可安全地防止紫外线激光辐射;

Ÿ 激光和激光气柜连接到外部排气管。

二、功能

技术特点

一体化解决方案,用于快速即插即用安装

先进的过程自动化,也适用于超晶格沉积

耐氧衬底加热器,具有1000°C的高温测量功能

可任选地提供基板的激光加热

灵活的先进机械手,具有交叉污染屏蔽功能

为系统升级准备的真空室(RHEED,等离子源,OES / FTIR...

SURFACE Fluence Control选项,可获得100%可重复的结果

全封闭光束线,无忧无虑,安全操作

真空室:内置灵活性

真空室专为研究而设计。它具有适用于常见的原位分析工具或其他系统扩展的备用法兰:

Ÿ 光学分析方法:OESFTIR

Ÿ RHEED

Ÿ 质谱

Ÿ 额外的沉积或等离子体源

 

此外,两个窗口允许从两个不同角度和两个侧面观察沉积过程。主要工艺组件:靶材和基板操纵器。标准配置提供2“基板加热器和4×2”内置靶材操纵器。

为了调节工艺条件,用于将工艺气体供应到腔室中的两个质量流量控制器通道是标准的。它们可以自动控制过程气氛和压力。

激光束将在两个不同的入射角下撞击靶材的每个点,因此不影响烧蚀材料的化学计量。为了实现均匀的靶材沉积,可以使用两种不同的靶材运动模式:

切换:目标传送带以连续运动的方式来回移动,以便激光束在距目标中心的多种半径处轰击靶材。该模式易于设置,只需要知道靶材直径。

扫描:移动目标传送带,使激光束在靶材上写入定义的轨道。调整目标旋转速度和轨道间距以匹配激光光斑尺寸和重复率,实现了靶材的均匀沉积。

PLD-Lab:多个腔室,一个激光器

如果需要更多吞吐量,可以将多个PLD工作站组合到共享一个激光器的系统中。带有自动反射镜的扩展光束线然后将激光束引导到所需的PLD工作站室。激光服务器计算机基于需求自动控制激光器和光束线,并且PLD室中的沉积过程被延迟,直到激光器可用于特定腔室。

技术参数

激光: 相干COMPexPro 201F205F,大脉冲能量0.7 J

波长: KrF 248nm

压力控制: 2MFC通道,自动压力控制

基板加热器: 直径1“2”1000°C(根据要求可提供其他尺寸)或激光加热器

基材旋转: 050 rpm

靶材: 4×2“,目标旋转(0-50 rpm)和带轨道控制的位置,均匀沉积

控制系统: 基于PC的控制,集成TFT监视器

IT功能: LAN连接,SURFWARE支持软件

尺寸: 2200×850×1600mm³

三、应用

Ÿ 约瑟夫结

Ÿ PZT薄膜

Ÿ 金属及复杂金属氧化物