VIL系列纳米图形系统(激光干涉光刻机)具有快速可重构光束传输、主动图形稳定和精确样品定位等强大功能。该系统可以通过使用标准2cm×2cm正方形或用户定义形状的图案场进行重复曝光,在8英寸大面积上产生多种纳米结构,例如1D光栅线和2D柱/孔图案,周期从240 nm到1500 nm。
VIL系列纳米图形系统(激光干涉光刻机)具有快速可重构光束传输、主动图形稳定和精确样品定位等强大功能。该系统可以通过使用标准2cm×2cm正方形或用户定义形状的图案场进行重复曝光,在8英寸大面积上产生多种纳米结构,例如1D光栅线和2D柱/孔图案,周期从240 nm到1500 nm。