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离子束刻蚀/沉积系统
品 牌 :Elionix
型 号 :EIS-200
产 地 :日本
关键词 :离子束蚀刻,干法蚀刻,离子束减薄,离子束沉积

EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。




EIS-200原理:




利用ECR技术产生高能Ar+离子束,Ar+离子束通过电场加速到达样品表面,对样品进行物理的轰击达到刻蚀作用。

       

EIS-200具有以下优点:

Ÿ   方向性好,各向异性,陡直度高,侧向刻蚀少

Ÿ   分辨率高

Ÿ   不受刻蚀材料限制,可对石英等材料进行蚀刻

Ÿ   可控制蚀刻Taper

Ÿ   可以设定多样的实验条件

Ÿ   NPD(纳米图案成膜单元)选项(如下图)



       主要功能


纳米级图案刻蚀

高深宽比蚀刻

离子束沉积

表面清洁

离子减薄


     技术能力



应用

纳米级图案刻蚀、高深宽比蚀刻、表面清洁、离子减薄等

Ÿ   SiO2 on Si substrate



Ÿ   Diamond Substrate(金刚石)

        

Ÿ   Quartz (Mask)



             

Ÿ   Oriented PET film